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一种导电膜气离式刻蚀工艺

  • 专利号:2021105561657 类型:发明专利 浏览:29次 发布时间:2025-1-13
  •  本发明公开了一种导电膜气离式刻蚀工艺,属于刻蚀技术领域,本发明可以通过在蚀刻油墨中掺入多个气离微球,并在导电膜下方间歇性施加磁场,迫使气离微球间歇性的对蚀刻油墨进行挤压,使得蚀刻油墨与导电膜充分接触进行蚀刻,然后对蚀刻油墨进行加热烘干,同时触发气离微球释放气体的动作,使得气体填充至缝隙中有助于蚀刻油墨的剥离,降低蚀刻油墨成膜后的剥离强度,伴随着气体的释放,磁性物质也会充斥于蚀刻油墨的缝隙中,再将磁场转移至导电膜上方,依靠对磁性物质的磁吸作用下,从而对膜产生均匀的多点剥离力,加速膜的剥离,不仅剥离简单,不易出现残留现象,同时可以避免对导电线路造成损伤。